رفتار دینامیکی و پایای طیف جذب و پاشندگی در بلور فوتونی یک بعدی حاوی لایه ی نقص آلائیده به اتم

پایان نامه
چکیده

کنترل انتشار نور در ساختارهای دی الکتریک لایه ای همواره مورد توجه محققین بوده است. این امر ناشی از قابلیت های فراوان این سیستم ها در کاربردهای گوناگون و وسیع در حیطه نورشناسی می باشد. مزیت اصلی سیستم لایه دی الکتریک نسبت به محیط اتمی قابلیت کاربرد آن در مطالعه انتشار نور در باند گاف بلور فوتونی است. تا به حال روش های گوناگونی برای کنترل رفتار انتشاری نور در داخل این سیستم ها ارائه شده است. برای نمونه می توان به کنترل الکتریکی، آکوستیکی، اپتیکی و نیز کنترل از طریق طراحی هندسی اشاره کرد. خواص انتشاری نور در یک سیستم لایه ای شامل سرعت گروه، جذب، پاشندگی، بازتاب و عبور می باشد. با توجه به اهمیت روش های تمام نوری برای کنترل خواص انتشاری، می توان از پدیده های همدوس برای کنترل جذب و پاشندگی در بلور فوتونی یک بعدی استفاده کرد. با توجه به وابستگی تمامی خواص نور به پذیرفتاری دی الکتریک، از این طریق می توان انتشار نور کاوشگر را از طریق میزان جذب و پاشندگی در سیستم لایه ای به صورت تمام نوری کنترل نمود. بدیهی است که حین این فرایند می توان با بهینه سازی ضخامت لایه ها کنترل پذیری انتشار نور در این سیستم ها را نیز ارتقا داد. رفتار حالت پایا و دینامیکی طیف جذبی و پاشندگی می تواند اطلاعات مفیدی در میزان کنترل پذیری سرعت گروه بدست دهد که موضوع اساسیِ این پروژه است. همچنین، پارامتر های موثر بر دینامیک و حالت پایای جذب و پاشندگی در این پروژه مورد بحث قرارخواهد گرفت. کنترل تمام نوری انتشار نور در بلورهای فوتونی یک بعدی در زمینه های گوناگون فوتونیک از قبیل سوئیچ های تمام نوری فعال، بلورهای فوتونی یک بعدی، لیزرهای کاواک نیم رسانا، آینه های عبوری و بازتابی براگ، تقسیم-کننده های توان و ... دارای کاربرد می باشند.

منابع مشابه

تنظیم ضریب جذب غیرخطی بلور فوتونی یک بعدی شامل نقص لایه گرافن

امروزه نانوساختار‌های گرافن استعداد چشمگیری برای استفاده در کاربردهایاپتوالکترونیک غیرخطی مانند فیلترهای باندگذر باریک از خود نشان داده‌اند. در این مقاله، میزان جذب غیرخطی بلور فوتونی یک بعدی شامل لایه‌های دی‌الکتریک Ta2O5 و SiO2 و لایه گرافن به عنوان نقص ساختار که دارای خاصیت غیرخطی نوری است، از جنبه نظری بررسی شده است. به دلیل پذیرفتاری غیرخطی مرتبۀ سوم قوی گرافن، اثر اپتیکی کر یکی از اثرات غ...

متن کامل

طیف تراگسیل بلور فوتونی یک بعدی با لایه نقص داکت گاوسی

بلور فوتونی محیطی است که تابع توزیع ضریب شکست در آن متناوب و یا شبه متناوب می باشد. بلورهای فوتونی در دهه ی اخیر به خاطر کاربردها و ویژگی های الکترومغناطیسی منحصر به فردشان به یک حوزه ی تحقیقاتی مهمی تبدیل شده اند. با انتخاب آرایش های مختلف از محیط های با خواص نوری معین، ابزارها و ادوات فوتونی طراحی می شوند. ویژگی بارز بلورهای فوتونی وجود گاف باند فوتونی در طیف تراگسیل می باشد. بطوریکه امواج ال...

15 صفحه اول

خواص گاف باند و مدهای نقص بلور فوتونی یک بعدی شامل لایه نقص پلاسمای مغناطیده

در علم فیزیک و فن آوری، مباحثی چون کاربرد مواد فوتونی و بلورهای نوری که امروزه در عرصه علمی و تکنولوژی از اهمیت بسزایی برخوردار است، از به روزترین مسائل می باشد. در این میان، بررسی ویژگی های بلورهای فوتونی یکی از مباحث مهم جامعه ی علمی است. بیشترین اهمیت بلورهای فوتونی به خاطر وجود باندهای ممنوعه و مدهای نقص آنها است که توانایی کنترل نور را آسانتر می کند.

تأثیر اتلاف روی مدهای نقص در بلور فوتونی یک بعدی

در ادامه رفتار مد نقص نسبت به دما مطالعه شده است. نتایج نشان می دهد که با افزایش دما، ارتفاع مد نقص کاهش پیدا می کند. و موقعیت آن به سمت فرکانس های بالاتر جابجا می شود. اثر اتلاف در ساختار نامتقارن برجسته تر می باشد. در واقع اندازه ی پیک مد نقص در طیف تراگسیلی، نسبت به ساختار متقارن بسیار کمتر می باشد. در صورت افزایش دما میزان کاهش ارتفاع مد نقص در بلور فوتونی دارای نقص pb1-xsnxte بسیار بیشتر ا...

Survey of the nutritional status and relationship between physical activity and nutritional attitude with index of BMI-for-age in Semnan girl secondary school, winter and spring, 2004

دیکچ ه باس فده و هق : ب یناوجون نارود رد هیذغت تیعضو یسررب ه زا ،نارود نیا رد یراتفر و یکیزیف تارییغت تعسو لیلد ب تیمها ه تسا رادروخرب ییازس . یذغتءوس نزو هفاضا ،یرغلا ،یقاچ زا معا ه هیذغت یدق هاتوک و یناوـجون نارود رد یا صخاش نییعت رد ب نارود رد یرامیب عون و ریم و گرم یاه م یلاسگرز ؤ تـسا رث . لماوـع تاـعلاطم زا یرایسـب لـثم ی هتسناد طبترم هیذغت عضو اب بسانم ییاذغ تاداع داجیا و یتفایرد یفاضا...

متن کامل

اثر هارتمن در نانو بلور فوتونی یک بعدی با در نظر گرفتن لایه نقص

در این پایان نامه، اثر هارتمن در ساختار نانو بلور فوتونی یک بعدی مورد مطالعه قرار می گیرد . با استفاده از روش ماتریس انتقال و روش فاز ایستا، زمان فازی مربوط به پالس عبوری از درون نانو بلور فوتونی یک بعدی بررسی شده و نشان داده می شود اگر مواد تشکیل دهنده ی نانو کریستال فوتونی یک بعدی دارای ضریب شکست مثبت باشد اثر هارتمن مثبت می شود که به سرعت فرانوری می انجا مد. همچنین با قرار دادن لایه نقص در ا...

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - پژوهشکده فیزیک

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023